三谷 智明 | 慶應義塾大学理工学部中央試験所
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概要
関連著者
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三谷 智明
慶應義塾大学理工学部中央試験所
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慶應義塾大学経済学部化学教室
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北海道大学 大学院工学研究科
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Institute For Materials Research Tohoku University
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Carl Zeiss Japan
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エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
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三谷 智明
慶応大学理工学部中央試験所
著作論文
- SEMの新たな世界
- 番外編 ユーザーの立場に立った表面分析の新展開(番外・最終回)FIBとrf-GD併用による半導体素子断面試料の作成--完璧なSEM-friendly surfaceを求めて
- 超ミクロトームによる断面出しと低加速・高分解能反射電子像観察
- ユーザーの立場に立った表面分析の新展開(番外9)SEM-friendlyな前処理方法を探して
- ユーザーの立場に立った表面分析の新展開(番外8)フラッシュメモリー断面・3D観察の新手法
- ユーザーの立場に立った表面分析の新展開(番外7)高分解能FE-SEM channeling BSE imagingによる高純度Al箔微細組織の観察
- 番外編 ユーザーの立場に立った表面分析の新展開(番外6)超高分解能BSE imagingによる高純度Al箔表面のPbナノ微粒子の観察
- 電子顕微鏡による断面・界面観察の新たな世界
- 高分解能FE-SEM/ESB/ASBの拓く : 新たなナノ表面分析の世界
- 超低加速・高分解能FE-SEMによる半導体デバイスの観察
- 高周波グロー放電を用いる電子顕微鏡試料作製技術
- 超低加速・超高分解能電界放出型走査型電子顕微鏡の拓くナノ表面分析の新たな世界 : ステンレス鋼中のナノ介在物の観察と分析