松永 和夫 | 日本電信電話(株)通信エネルギー研究所

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概要

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関連著者

• 松永 和夫

  日本電信電話(株)通信エネルギー研究所

• 大平 文和

  日本電信電話(株)通信エネルギー研究所

• 大平 文和

  Ntt境界領域研究所

• 松井 伸介

  NTT境界領域研究所

• 松井 伸介

  Ntt フォトニクス研

• 大平 文和

  Ntt光エレクトロニクス研究所

• 松永 和夫

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 松井 伸介

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 小林 勝

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 小藪 国夫

  日本電信電話(株)通信エネルギー研究所

• 松井 伸介

  日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所

• 松井 伸介

  Ntt通信エネルギー研究所

• 碓氷 光男

  日本電信電話(株)通信エネルギー研究所

• 斎藤 忠男

  (株)アフティ

• 岩野 真一

  NTT通信エネルギー研究所

• 松永 和夫

  NTT境界領域研究所

• 松井 伸介

  Nttマイクロシステムインテグレーション研究所

• 松井 伸介

  日本電信電話株式会社nttマイクロシステムインテグレーション研究所

• 松井 伸介

  日本電信電話(株)

• 碓氷 光男

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 浅川 修一郎

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 松永 和夫

  日本電信電話公社横須賀研究所

• 松永 和夫

  日本電信電話(株)武蔵野電気通信研究所

• 大平 文和

  Ntt通信エネルギー研究所ネットワーク装置イングレーション研究部

• 小藪 国夫

  日本電信電話(株)

• 松永 和夫

  NTT通信エネルギー研究所

• 露嵜 晴夫

  NTT通信エネルギー研究所

• 小藪 国夫

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 斎藤 忠男

  NTT境界領域研究所

• 大平 文和

  香川大学工学部知能機械システム工学科

• 小林 勝

  日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所

• 大平 文和

  香川大学工学部

• 岩野 真一

  NTT光エレクトロニクス研究所

• 浅川 修一郎

  日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所

• 碓氷 光男

  日本電信電話(株)マイクロシステムインテグレーション研究所

• 浅川 修一郎

  日本電信電話(株)nttフォトニクス研究所

• 大平 文和

  Ntt 光エレクトロニクス研

• 松永 和夫

  NTT 光エレクトロニクス研究所

• 小薮 国夫

  NTT 光エレクトロニクス研究所

• 斉藤 忠男

  NTT境界領域研究所

• 菊谷 幸雄

  NTT境界領域研究所

• 松永 和夫

  株式会社NTT-ME

• 渡辺 巌

  株式会社NTT-ME

• 日野 昇

  株式会社NTT-ME

• 上野 幸次

  株式会社NTT-ME

• 大平 文和

  日本電信電話(株)ntt光エレクトロニクス研究所

• 小薮 国夫

  Ntt 光エレクトロニス研究所

• 大平 文和

  日本電信電話(株)

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著作論文

• アレーベア光ファイバーの一括端面加工
• MU形光コネクタの低コスト・高性能端面研磨装置の開発 : 結晶化ガラスフェルールの研磨
• C-3-22 MU形光コネクタの低コスト・高性能端面研磨装置の開発
• C-3-65 MU形光コネクタの低コスト端面研磨技術
• AFMスクラッチによる光ファイバ端面加工変質層の評価
• 光ファイバの端面研磨と加工変質層 : 加工変質層と反射減衰量の関係
• アレーベア光ファイバ端面のテーパ加工
• アレーベアーファイバ端面の球面研磨
• アレーファイバー端面のテーパ加工と装置
• アレーファイバ端面の球面研磨および装置
• 光ファイバコネクタ用高性能SiO_2研磨フィルムの開発
• 光コネクタ端面の高性能研磨装置の開発
• 光コネクターの加工技術
• 光ファイバ加工への応用
• C-3-85 Mu形光コネクタの低コスト・高性能端面研磨装置の開発 : プリドームフェルールの研磨方法

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