喜多 浩之 | 東京大学工学部
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概要
関連著者
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喜多 浩之
東京大学
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鳥海 明
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
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鳥海 明
半導体mirai-産総研asrc:東京大学工学部マテリアル工学科
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鳥海 明
東京大学
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喜多 浩之
東京大学工学部
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鳥海 明
東京大学大学院
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長汐 晃輔
東京大学工学系研究科マテリアル工学専攻
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王 盛凱
東京大学
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李 忠賢
東京大学
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吉田 まほろ
東京大学
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西村 知紀
東京大学
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李 忠賢
東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
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東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻
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長汐 晃輔
東京大学
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弓野 健太郎
東京大学工学部
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鳥海 明
東京大学工学部
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長汐 晃輔
東京大学マテリアル工学専攻
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西村 知紀
東京大学マテリアル工学専攻
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弓野 健太郎
東京大学大学院工学系研究科
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李 忠賢
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻:jst-crest
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王 盛凱
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻:jst-crest
著作論文
- Ge/GeO_2界面反応の理解に基づいたGeO_2膜物性の制御とGe-MOSFETの性能向上
- UHV-C-AFMによるHfO_2/SiO_2スタック構造におけるリークスポットの直接観察(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)