安田 幸夫 | 豊橋技科大

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概要

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関連著者

• 安田 幸夫

  豊橋技科大

• 安田 幸夫

  名古屋大学工学部

• 中村 哲郎

  豊橋技科大

• 中村 哲郎

  豊橋技術科学大学工学部電気電子工学系

• 中村 哲郎

  豊橋技術科学大学電機電子工学系

• 中村 哲郎

  豊橋技術科学大学

• 朴 康司

  豊橋技科大

• 安田 幸夫

  名古屋大学

• 吉田 明

  豊橋技科大

• 石田 誠

  豊橋技術科学大学電気・電子工学系

• 大山 英典

  豊橋技術科学大学電機電子工学系

• 若松 英利

  豊橋技術科学大学電機電子工学系

• 阿部 浩

  豊橋技術科学大学電機電子工学系

• 今井 公正

  豊橋技科大

• 山田 浩之

  豊橋技科大

• 岡崎 祐二

  豊橋技科大

• 福原 裕明

  豊橋技科大

• 佐藤 和重

  豊橋技科大

• 西永 頌

  東大工

• 西永 頌

  豊橋技科大

• 数野 忠雄

  住友金属鉱山

• 反保 敏治

  豊橋技科大

• 小出 二郎

  豊橋技科大

• 並木 章

  豊橋技科大

• 石田 誠

  豊橋技術科学大学

• 安田 幸夫

  名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻:(現)高知工科大学総合研究所

• 松下 嘉明

  (株)東芝セラミックスシリコン事業部

• 高須 新一郎

  東芝総合研究所

• 安田 幸夫

  東芝総合研究所

• 松下 嘉明

  東芝総合研究所

• 財満 鋼明

  名古屋大学先端技術共同研究センター

• 川合 孝明

  豊橋技科大

• 吉井 俊夫

  東芝総合研究所

• 安田 幸夫

  豊橋技術科学大学

• 市毛 健志

  豊橋技科大

• 高須 新一郎

  Semi

• 大山 英典

  豊橋技術科学大学

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著作論文

• アモルファスSiバッファ層を用いたサファイア基板上へのSiヘテロエピタキシャル成長とその特性
• TMIを用いたInPのMOCVD成長 : エピタキシー
• ミスオリエンテーション基板上へのGaP液相成長表面波模様と非発光領域
• GaP液相エピキシャル成長時におけるマクロステップの振舞 : エピタキシー
• ヘテロエピタキシアル成長層の結晶学的キヤラクタリゼイション : エピタクシー
• シリサイドの固相成長
• Ge on Si(ICVGE-7(第7回気相成長・エピタキシー国際会議))
• サファイア上のシリコン単結晶膜の製法と性質
• 3a-A1-10 CdS表面からのレーザー誘起脱離粒子の角度依存性(3a A1 表面・界面,量子エレクトロニクス)

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