西出 征男 | (株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部
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概要
(株)ルネサス テクノロジ、生産本部、ウエハプロセス技術統括部 | 論文
- 高い駆動能力を有する高信頼HfSiONゲート絶縁膜の作製
- Dual-core-SiON技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- Dual-core-SiON 技術を活用したhp65-SoC LOP向けOI-SiNゲート絶縁膜
- CMOS用極薄SiONゲート絶縁膜のn/p独立チューニング(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- NBTIから考えるSiONゲート絶縁膜のスケーラビリティ(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)