嵯峨 秀樹 | (株)日立製作所中央研究所
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概要
関連著者
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嵯峨 秀樹
(株)日立製作所中央研究所
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助田 裕史
(株)日立製作所中央研究所
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助田 裕史
日立製作所中央研究所
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根本 広明
(株)日立製作所中央研究所
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嵯峨 秀樹
日立製作所研究開発本部
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助田 裕史
日立製作所デジタルメディア製品事業部
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嵯峨 秀樹
日立製作所
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根本 広明
日立製作所中央研究所
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高橋 正彦
日立製作所デジタルメディア製品事業部
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高橋 正彦
日立製作所 中央研究所
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高橋 正彦
日立製作所中央研究所
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伊藤 康博
日立金属(株)磁性材料研究所
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萩野谷 千積
(株)日立製作所中央研究所
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伊藤 康博
日立金属(株)情報部品カンパニー 開発センター
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土永 浩之
日立製作所中央研究所
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根本 広明
(株)日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ
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釘屋 文雄
(株)日立グローバルストレージテクノロジーズ
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釘屋 文雄
日立製作所中央研究所
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萩野谷 千積
日立製作所 基礎研究所
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池田 哲也
(株)日立製作所 映像情報メディア事業部 光ストレージ本部
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土永 浩之
(株)日立製作所中央研究所
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萬 雄彦
日立マクセル
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萬 雄彦
日立マクセル(株)
著作論文
- 縮小された光スポットによる高密度光磁気記録
- 膜面入射光によるRE-TM薄膜への高密度記録
- 2レベル独立エッジ検出による光磁気ディスクのパーシャルレスポンス再生方式 : 画像情報記録
- 2レベル独立エッジ検出による光磁気ディスクのパーシャルレスポンス再生方式
- 熱磁気記録 : GMR再生方式の現状と将来展望
- 光記録と磁気再生を融合するための試み
- RE-TM系材料を用いた光記録 : 磁気再生方式
- RE-TM系材料を用いた光記録 : 磁気再生方式
- 光変調記録による光磁気ディスクの高線密度記録
- 光磁気ディスクにおける適応型熱補償の検討
- 光磁気ディスクにおける微小マークの高精度形成の検討
- 各種の信号劣化要因を考慮した光磁気ディスクのPRML記録・再生チャネルの検討
- RE-TM系材料を用いた光記録-磁気再生方式