MIN Kyunghoon | スパンション株式会社

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概要

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• 同名の論文著者
• スパンション株式会社の論文著者

関連著者

• 伊藤 隆司

  東北大学大学院工学研究科

• 加藤 寿

  東京エレクトロンat 東京エレクトロン

• KIM Unsoon

  スパンション株式会社

• MIN Kyunghoon

  スパンション株式会社

• CHENG Ning

  スパンション株式会社

• WU Huaqiang

  スパンション株式会社

• LEE Chungho

  スパンション株式会社

• CHEUNG Fred

  スパンション株式会社

• 上西 雅彦

  東京エレクトロンAT,東京エレクトロン

• 多田 新吾

  東京エレクトロンAT,東京エレクトロン

• 伊藤 隆司

  (株)富士通研究所

• Kinoshita Hiro

  スパンション株式会社

• 伊藤 隆司

  富士通研究所

• 伊藤 隆司

  東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所

• 上西 雅彦

  東京エレクトロンat 東京エレクトロン

• 杉野 林志

  スパンション株式会社:東北大学大学院工学研究科

• 多田 新吾

  東京エレクトロンat 東京エレクトロン

• 伊藤 隆司

  東京工大 ソリューション研究機構

• 杉野 林志

  スパンション株式会社

• KINOSHITA Hiroyuki

  スパンション株式会社

• Kim Unsoon

  SPANSION Inc.

• Min Kyunghoon

  SPANSION Inc.

• Cheng Ning

  SPANSION Inc.

• Wu Huaqiang

  SPANSION Inc.

• Lee Chungho

  SPANSION Inc.

• Cheung Fred

  SPANSION Inc.

• Kinoshita Hiro

  SPANSION Inc.

• 杉野 林志

  SPANSION Inc.

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著作論文

• 塩素ガスエッチングを用いた微細MOS Elevated Source/Drainプロセス : 高選択,ダメージフリーのバッチ処理Siエッチング(研究会推薦論文,半導体材料・デバイス)
• 塩素ガスエッチングを用いた微細MOS Elevated Source/Drainプロセス : 高選択、ダメージフリーのバッチ処理Siエッチング

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