内藤 正路 | 九工大工
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概要
関連著者
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西垣 敏
九州工業大学工学部電気工学科
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内藤 正路
九工大工
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西垣 敏
九工大工
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内藤 正路
九州工業大学大学院工学研究院
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山田 健二
石川高専
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大石 信弘
熊木電波工業高等専門学校電子工学科
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大石 信弘
熊本電波高専
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生地 文也
九州共立大学工学部メカエレクトロニクス学科
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渡邊 晃彦
九工大工
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嶋矢 博
九工大工
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生地 文也
九共大工
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生地 文也
九州共立大学工学部
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渡辺 晃彦
九工大工
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渡邉 晃彦
九工大工
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浅成 純子
九工大工
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皆元 健太
九工大工
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皆元 健太
九大総理工
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岩元 晋
九工大工
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嘉藤 貴博
九工大工
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Tandjoeng Soeparto
九工大工
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園田 修治
九工大工
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碇 智徳
九工大工
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碇 智徳
宇部工業高等専門学校
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勝浦 正光
九工大工
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田中 秀樹
九工大工
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小西 晶
九工大工
著作論文
- 29a-PS-20 アルカリ金属吸着シリコン表面の構造及び電子状態の走査トンネル顕微鏡観察
- 28p-PSB-26 シリコン表面上の金属・水素共吸着系のSTM/STS観察
- 26a-YR-11 Si(111)7×7表面上のK吸着過程 : 中被覆度領域での吸着構造解析
- 7a-PS-7 MDSによるSi(111)表面上Cs吸着の電子状態変化と酸化初期過程
- 29a-PS-37 Cs/GaAs(001)表面上の酸素吸着の準安定原子脱励起分光
- スピン偏極MDSによるNi(110)表面の電子状態検出
- GaAs(001)表面上のアルカリ金属・酸素共吸着系の表面局所電子状態
- 29a-PS-44 スピン偏極MDSによるO/Ni(110)表面電子状態解析
- 7a-PS-5 Bi蒸着Si表面における水素吸着過程のSTM観察
- 29a-PS-35 アルカリイオン散乱によるGaP(001)4×2表面構造の解析
- Bi/Si(100)面の走査トンネル顕微鏡観察
- 31a-J-2 GaP(001)清浄及び水素処理面のSTM/STS観察
- 30a-PS-28 GaP(100)清浄及びアルカリ金属吸着表面のISS/LEED