山田 健二 | 石川高専
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概要
関連著者
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山田 健二
石川高専
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西垣 敏
九州工業大学工学部電気工学科
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内藤 正路
九州工業大学大学院工学研究院
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西垣 敏
九州工大工
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内藤 正路
九工大工
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西垣 敏
九工大工
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伊賀 久雄
九州工大工
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西垣 敏
豊橋技科大
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内藤 正路
九州工大工
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浅成 純子
九工大工
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山田 健二
豊橋技科大
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内藤 正路
九州工業大学工学部電気工学科
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三浦 広行
豊橋技科大
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渡辺 晃彦
九工大工
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皆元 健太
九工大工
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皆元 健太
九大総理工
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山田 健二
石川工業高等専門学校
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杉万 貴久
九州工大
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橋本 誠人
九州工大
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内藤 正路
九州工大
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岩元 晋
九工大工
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嘉藤 貴博
九工大工
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嘉籐 玲智
九州工大工
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池上 英治
九州工大工
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森田 勝和
九州工大工
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嘉藤 玲智
九州工大工
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佐々木 隆
豊橋技科大
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西垣 敏
九州工業大学大学院工学研究院
著作論文
- 29a-PS-20 アルカリ金属吸着シリコン表面の構造及び電子状態の走査トンネル顕微鏡観察
- 24aPS-19 MDSによるSi(001)表面窒素化へのK, O吸着効果の研究
- 29a-PS-11 準安定原子脱励起分光法による半導体表面上のCs吸着とその酸化促進効果の研究
- 7a-PS-7 MDSによるSi(111)表面上Cs吸着の電子状態変化と酸化初期過程
- 29a-PS-37 Cs/GaAs(001)表面上の酸素吸着の準安定原子脱励起分光
- Ge (001) 表面上の酸素・アルカリ金属共吸着系の準安定原子脱励起分光
- スピン偏極MDSによるNi(110)表面の電子状態検出
- GaAs(001)表面上のアルカリ金属・酸素共吸着系の表面局所電子状態
- 31p-PSB-77 Ge(001)表面上の酸素・アルカリ金属共吸着系の表面局所電子状態
- 29a-WB-3 Cs吸着Ge表面への酸素吸着 : 準安定原子脱励起分光法
- 13a-PS-18 Ge(100)表面の準安定原子脱励起分光 : 清浄及びアルカリ金属吸着
- 26a-Y-11 Cs/Si(001)表面の酸化過程における表面電子状態の変化
- 25p-PS-51 酸化Si(001)表面上のアルカリ金属吸着による酸化促進作用
- 5a-PS-38 Si(100)表面上K→酸素直接電荷移行のK扱覆率依存性 : He^*による検出