西垣 敏 | 九州工大工
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概要
関連著者
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西垣 敏
九州工大工
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山田 健二
石川高専
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西垣 敏
九州工業大学工学部電気工学科
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内藤 正路
九州工業大学大学院工学研究院
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内藤 正路
九州工大工
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伊賀 久雄
九州工大工
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西垣 敏
豊橋技科大
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内藤 正路
九州工大
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山田 健二
豊橋技科大
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九州共立大学工学部メカエレクトロニクス学科
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三浦 広行
豊橋技科大
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渡辺 晃彦
九工大工
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九州工大工
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熊本電波高専
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熊木電波工業高等専門学校電子工学科
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熊本電波高専
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嘉籐 貴博
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TANDJOENG Soeparto
九州工大
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園田 修治
九州工大
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出水 秀典
九工大工
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生地 文也
九州共立大学工学部
著作論文
- 28p-PSB-28 GaP(001)清浄表面及びアルカリ金属吸着表面からの低速イオン散乱
- 24aPS-19 MDSによるSi(001)表面窒素化へのK, O吸着効果の研究
- 29a-PS-11 準安定原子脱励起分光法による半導体表面上のCs吸着とその酸化促進効果の研究
- 31p-PSB-77 Ge(001)表面上の酸素・アルカリ金属共吸着系の表面局所電子状態
- 29a-WB-3 Cs吸着Ge表面への酸素吸着 : 準安定原子脱励起分光法
- 13a-PS-18 Ge(100)表面の準安定原子脱励起分光 : 清浄及びアルカリ金属吸着
- 26a-Y-11 Cs/Si(001)表面の酸化過程における表面電子状態の変化
- 25p-PS-51 酸化Si(001)表面上のアルカリ金属吸着による酸化促進作用
- 5a-PS-38 Si(100)表面上K→酸素直接電荷移行のK扱覆率依存性 : He^*による検出
- 26a-YR-6 Si(100)表面におけるBi誘起新構造のSTM観察
- 31a-PS-5 スピン偏極Heを用いたNi(110)表面電子状態解析