嵯峨 幸一郎 | ソニー株式会社

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概要

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• 同名の論文著者
• ソニー株式会社の論文著者

関連著者

• 嵯峨 幸一郎

  ソニー株式会社

• 服部 毅

  ソニー株式会社

• 国安 仁

  ソニー株式会社

• 嵯峨 幸一郎

  ソニー(株)超LSI研究所

• 小谷田 作夫

  ソニー(株)超LSI研究所

• 服部 毅

  ソニー(株)超LSI研究所

• 服部 毅

  ソニー(株)半導体事業部

著作論文

• ウェーハ表面吸着有機物の同定とその除去
• 高アスペクト比微細構造におけるウェット洗浄の限界とパターン破壊フリー洗浄技術
• 高アスペクト比微細構造におけるウェット洗浄の限界とパターン破壊フリー洗浄技術(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• ウェーハ密閉搬送による自然酸化膜成長防止とその成膜プロセスへの適用

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