小川 真一 | 松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター
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概要
関連著者
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小川 真一
松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター
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小川 真一
松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター
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小川 真一
松下電器産業(株)半導体研究センター
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邑瀬 邦明
京都大学大学院 工学研究科
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邑瀬 邦明
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
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村上 正紀
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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村上 正紀
The Ritsumeikan Trust
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守山 実希
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
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藤川 隆男
株式会社神戸製鋼所高砂製作所/機械カンパニー
著作論文
- 新時代を迎えたエレクトロニクス配線技術
- 高融点金属/Si界面での固相非晶質化反応
- Co/中間層/(100)Si 構造における直接エピ CoSi_2 形成
- 高信頼性化のためのアルミニウム配線材料の進展
- ULSIプロセスにおける高融点金属/Si基板界面反応