ULSIプロセスにおける高融点金属/Si基板界面反応

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概要

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• 日本金属学会の論文
• 1996-04-20

著者

• 小川 真一

  松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター

• 小川 真一

  松下電子工業(株)半導体社プロセス開発センター

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