Co/中間層/(100)Si 構造における直接エピ CoSi_2 形成

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2001-12-20

著者

• 小川 真一

  松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター

• 小川 真一

  松下電器産業(株)半導体研究センター

関連論文

• 新時代を迎えたエレクトロニクス配線技術
• 高融点金属/Si界面での固相非晶質化反応
• Co/中間層/(100)Si 構造における直接エピ CoSi_2 形成
• 高信頼性化のためのアルミニウム配線材料の進展
• ULSIプロセスにおける高融点金属/Si基板界面反応

スポンサーリンク