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小川 真一 | 松下電器産業(株)半導体研究センター
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小川 真一
松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター
小川 真一
松下電器産業(株)半導体研究センター
著作論文
高融点金属/Si界面での固相非晶質化反応
Co/中間層/(100)Si 構造における直接エピ CoSi_2 形成
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