上野 智雄 | 東京農工大学工学部
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概要
関連著者
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上野 智雄
東京農工大学工学部
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岩崎 好孝
東京農工大学工学部
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上野 智雄
東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
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岩崎 好孝
東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
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岩崎 好孝
東京農工大学大学院 工学府 電気電子工学専攻
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前田 祐
東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
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湯口 貴彦
東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
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向井 直礼
東京農工大学大学院工学府電気電子工学専攻
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上谷 愛
東京農工大学工学部
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紺野 哲豊
東京農工大学 工学部
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紺野 哲豊
東京農工大学工学部
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上谷 愛
東京農工大学 工学部
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内田 貴士
東京農工大学工学部
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直井 太郎
東京農工大学工学部
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蓮見 真彦
東京農工大学工学部
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黒岩 紘一
東京農工大学工学部
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長里 喜隆
東京農工大学工学部
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小林 晃子
東京農工大学工学部
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入野 真
東京農工大学工学部
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小林 晃子
東京農工大学工学部:(現)(株)東芝セミコンダクター社
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蓮見 真彦
東京農工大学 工学部
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前田 祐
東京農工大学大学院 工学府 電気電子工学専攻
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小林 晃子
東京農工大学 工学部
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長里 喜隆
東京農工大学 工学部
-
入野 真
東京農工大学 工学部
著作論文
- TPD/Alq3構造有機ELへの後処理が素子特性に及ぼす影響 (有機エレクトロニクス)
- シリコン基板上への有機機能薄膜の作製 : TCNQ薄膜の配向制御
- TPD/Alq_3構造有機ELへの後処理が素子特性に及ぼす影響(有機材料・一般)
- 堆積金属酸化法によるHfO_2/Si構造の作成とその高分解能RBS評価(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)
- 交互供給MOCVD法によるBi_4Ti_3O_薄膜の低温作製
- 交互供給MOCVD法によるBi_4Ti_3O_薄膜の低温作製
- TPD/Alq_3構造有機ELへの後処理が素子特性に及ぼす影響