内藤 泰久 | 独立行政法人産業技術総合研究所

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概要

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• 独立行政法人産業技術総合研究所の論文著者

関連著者

• 内藤 泰久

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 清水 哲夫

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 新堀 俊一郎

  株式会社三友製作所

• 白山 裕也

  株式会社三友製作所

• 横須賀 俊太郎

  株式会社三友製作所

• 樫村 健太

  株式会社三友製作所

• 徳本 洋志

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 徳本 洋志

  Jrcat-nair

• 徳本 洋志

  アトムテクノロジー研究体-産業技術融合領域研究所

• 高橋 賢

  独立行政法人通信総合研究所

• 川上 辰男

  株式会社三友製作所

• 綿谷 透

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 堀江 智之

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 岩瀬 千克

  株式会社三友製作所

• 林 明宏

  株式会社三友製作所

• 高橋 賢

  独立行政法人産業技術総合研究所

• 石田 敬雄

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノシステム研究部門

• 水谷 亘

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門

• 内藤 泰久

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門

• 内藤 泰久

  (独)産業技術総合研究所ナノテクノロジー研究部門

• Tokumoto Hiroshi

  Elecltrotechnical Laboratory

• Tokumoto Hiroshi

  Joint Research Center For Atom Technology (jrcat)

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著作論文

• 半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発
• ナノギャップ電極を用いた新しい不揮発性メモリの開発
• ナノギャップ電極を用いた分子ワイヤの測定
• 半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発
• ナノギャップ電極を用いた, 分子の導電性測定
• 半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発(4) : プラズマ加工中の温度精密計測
• 半導体デバイス解析用局所プラズマ加工装置の開発(3) : 四重極質量分析による加工モニタリング
• ナノギャップ構造を用いた，不揮発抵抗スイッチ効果
• ナーノギャップ構造を用いた, 不揮発抵抗スイッチ効果

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