廣瀬 全孝 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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廣瀬 全孝
産業技術総合研究所
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廣瀬 全孝
産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
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宮崎 誠一
広島大学大学院 先端物質科学研究科
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村上 秀樹
広島大学大学院先端物質科学研究科
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池田 弥央
広大院先端研
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広瀬 全孝
産業技術総合研究所
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香野 淳
福岡大学理学部
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池田 弥央
広島大学大学院先端物質科学研究科
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香野 淳
福岡大学理学研究科応用物理学専攻
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宮崎 誠一
広島大学大学院
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池田 弥央
広島大学大学院 先端物質科学研究科
-
村上 秀樹
広島大学大学院 先端物質科学研究科
著作論文
- シリコン量子ドットを用いたメモリーデバイスの開発
- LSI技術からみたシリコンフォトニクスへの期待
- ポストスケーリング技術の新展開に期待する
- SOCを支える次世代半導体プロセス技術
- ナノテクノロジーと情報技術