内藤 正路 | 阪大工

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概要

• 同名の論文著者
• 阪大工の論文著者

関連著者

• 尾浦 憲治郎

  阪大工

• 内藤 正路

  阪大工

• 生地 文也

  九州共立大学工学部メカエレクトロニクス学科

• 生地 文也

  阪大工

• 内藤 正路

  九州工業大学大学院工学研究院

• 生地 文也

  九州共立大学工学部

• 尾浦 憲治郎

  大阪大学大学院

• 尾崎 裕一

  阪大工

• 大西 秀朗

  大阪大学超高圧電子顕微鏡センター

• 大西 秀朗

  阪大工

• 森岡 肇

  阪大工

• 安藤 忍

  阪大工

• 梅沢 憲司

  阪大工

• 山根 淳二

  阪大工

• 塙 輝雄

  阪大工

• 塙 輝雄

  阪大工:(現)大阪

• 清水 清之

  阪大工

• 綿森 道夫

  阪大工

• 田中 秀直

  阪大工

• 綿森 道夫

  大阪大学工学部電子工学科

• 前田 泰宏

  阪大工

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著作論文

• 5p-T-5 ERDA/LEEDによるSi(111)-√×√ Ag表面への水素吸着
• 27p-PSA-8 Ag膜成長初期過程におけるSi基板表面水素のERDA観察
• 29p-BPS-59 高エネルギーイオンERDAによるSi(100)面上での吸着H,Dのふるまいに関する研究
• 29p-BPS-51 A1単原子層蒸着Si面上に及ぼす水素吸着の影響のLEED観察
• 29p-PSB-4 Si(100)面上の水素吸着過程
• 24p-R-12 高エネルギーイオンERDAとLEEDによる水素、重水素吸着Si単結晶表面の研究
• 30a-TA-6 水素吸着したSi(111)表面上におけるAgのエピタキシャル成長のLEED観察
• 2p-PSA-21 低温におけるSi表面吸着水素のERDA観察
• シリコン表面の水素変性と薄膜形成初期過程

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