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秋山 和裕 | 三菱マテリアル株式会社中央研究所
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三菱マテリアル株式会社中央研究所 | 論文
酸素イオン注入 Si 層の結晶性回復と向上 - SIMOX の結晶性向上 -
SOIウェーハの表面欠陥評価とそのデバイス特性への影響
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Siエピタキシャル成長におけるCOPピットの挙動(バルク成長分科会特集 : シリコン結晶の最近の話題から)
Si ウエハー表面金属の洗浄液中での挙動
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