佐藤 聖幸 | NEC ULSIデバイス開発研究所微細加工技術開発部

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概要

• 同名の論文著者
• NEC ULSIデバイス開発研究所微細加工技術開発部の論文著者

関連著者

• 宮本 秀信

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 佐藤 聖幸

  NEC ULSIデバイス開発研究所微細加工技術開発部

• 宮本 秀信

  Nec

• 佐藤 聖幸

  Nec Ulsiデバイス開発研究所

• 渡嘉敷 健

  NEC ULSIデバイス開発研究所

• 渡嘉敷 健

  Nec

• 渡嘉敷 健

  Nec Ulsiデバイス開発研究所微細加工技術開発部

• 高橋 美朝

  NEC 半導体(事)

• 高橋 美朝

  Nec 半導体事業部

• 二宮 仁

  NEC 半導体事業部

著作論文

• RuO2ドライエッチングにおける塩素添加効果 : 導電性酸化膜から成るGbクラスDRAM容量電極の微細加工方法
• パワーIC用トレンチMOSFETプロセスの開発

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