吉田 光一 | ロデール・ニッタ(株)

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• 吉田 光一

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• 吉田 光一

  ロデール・ニッタ

• 羽場 真一

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• 木下 正治

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• 久保 直人

  ロデール・ニッタ株式会社 技術部

• 森岡 善隆

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• 河東田 隆

  高知工科大学 電子・光システム工学科

• 板井 康行

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• 坂井 康行

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• 吉田 光一

  ロデール・ニッタ株式会社 技術二課

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著作論文

• 遠心分離によるフュームドシリカスラリーの粗大粒子除去
• STIスラリーの開発
• 高分散低スクラッチング・スラリーの開発
• Two-Step Copper CMP Solution -Copper CMP slurry "CUS-3000"開発状況-
• RODELのCMP用スラリー (特集 CMP技術と関連装置・材料の新展開) -- (CMP用スラリー)

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