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表面分析研究会 | 論文
- バックグラウンド解析法による表面電子励起効果の推定
- 表面化学分析におけるソフトウエアと標準化
- 光電子分光法(2)局所励起によるサテライト[含 英語文]
- 光電子分光法(1)歴史と概説[含 英語文]
- AESデータを解析する
- サリサイドプロセスにおけるシリサイド化反応の基板導電型依存性
- 斜入射X線励起光電子分光法の検出限界とバックグラウンド低減量に関する検討
- 国際会議報告 Korean Symposium on Surface Analysis(KoSSA)
- Quantification of Dimer (Al2+, Ga2+) SIMS Depth Profiles of a GaAs/AlAs Multilayer Structure usign the MRI-model
- 3年目の多結晶シリコン表面自然酸化層膜厚測定
- Oxidation process of phosphite antioxidants monitored by ToF-SIMS (Proceedings of PSA-07 (International Symposium on Practical Surface Analysis) November 25-28, 2007, Kanazawa, Japan)
- 解説 高温下のZr-O/W(100)における自己調整機能
- 二次電子の話(その1)生成モデルと普遍曲線について
- 話題 カソード開発に見る表面科学の原点
- 二次電子の話(その2)仕事関数との関わりについて
- 講義 EPMAにおける薄膜分析
- Study of Hafnium Related Oxide Thin Films for Advanced Gate Dielectrics Using Surface Analysis
- 斜出射EPMA法によるステンレス鋼中の介在物の分析
- 蒸着法によるBi-Sr-Ca-Cu酸化物超伝導薄膜の作製
- 清浄試料の分析装置搬入時の汚染を防止する試料導入方式