Dose Dependence of Recrystallization Processes in Amorphous SiC
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
著者
-
弘津 禎彦
大阪大学産業科学研究所
-
Bae In-tae
Research And Education Center For Materials Science Nara Institute Of Science And Technology:(presen
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