規制緩和等に関する緊急要望--1993年9月2日(抜粋)(資料)
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概要
論文 | ランダム
- 次世代ひずみSi-SGOIウエーハの微細組織観察
- ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
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- 電子サイクロトロンプラズマを活用したシリコン薄膜及び極薄シリコン酸化膜の形成とその電気的評価
- 26aB13 ECRスパッタリングプラズマ制御による単結晶薄膜の成長(ヘリカル/プラズマ応用)