不揮発性メモリにおけるONO絶縁膜の薄膜化

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概要

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• 東芝技術企画室の論文

著者

• 森 誠一

  東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 坂上 栄人

  (株)東芝 デバイス技術研究所

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