3E03 ゾル-ゲル法による酸化亜鉛薄膜の特性に及ぼす光照射の影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 日本セラミックス協会の論文
- 1999-10-06
著者
関連論文
- X線回折法によるLi_2O-TeO_2系ガラスのミクロ構造解析
- 高移動度のイオンをドープした耐放射線性ホウ酸塩系ガラスの構造特性とγ線照射効果 (放射線とイオンビームによる物質構造の研究と改質・合成)
- イオン伝導性ホウ酸塩系ガラス及びカルコゲン系半導体ガラスのγ線照射効果 (放射線とイオンビームによる物質構造の研究と改質・合成)
- 1C05 B_2O_3-Ag_2O 系ガラス及びその融体の X 線構造解析
- 1D05 B_2O_3-Ag_2O ガラスの X 線構造解析
- アパタイトセラミックスのポストシンタリング
- ゾルゲル法により合成したリチウムアルミノケイ酸塩系酸化物の熱膨張特性
- 超音波噴霧熱分解法を用いたCa_3Co_4O_9粉末の合成とその焼結体の電気的性質
- 硝酸塩を原料とするゾルーゲル法により調製した酸化亜鉛薄膜の結晶性,透過性および表面状態
- 化学溶液堆積法による酸化亜鉛薄膜の形態及び結晶性に及ぼす紫外線照射の効果
- 3D17 ZrW_2O_8 複合材料の熱膨張特性
- 2E13 p 型 LaInO_3 系焼結体の電気的性質
- ZnSb_2O_6及び(Zn_M_x)Sb_2O_6(M=Co, Ni, Cu)焼結体の電気伝導度と熱電性
- 3E03 ゾル-ゲル法による酸化亜鉛薄膜の特性に及ぼす光照射の影響
- 2G03 急冷により合成した ZrW_2O_8 の熱膨張と電気的性質
- 2B18 クエン酸錯体法により合成した Ln_2NiO_ 焼結体の電気的性質
- 2A16 アモルファスクエン酸錯体法を用いて合成した TiO_2 添加 ITO 焼結体の電気特性
- 「分かり易い耐火物の反応」 固相の熱分解
- 超音波噴霧乾燥法によるZn-Al-0系材料の合成およびその電気的性質
- 導電性酸化物における電気伝導度とゼ-ベック係数の関係
- アモルファスクエン酸錯体法によるペロブスカイト型 LaFeO_3 粉末の調製
- アモルファスクエン酸錯体法によるガーネット型Gd_3Al_5O_粉末の調製
- 3G25 セレン化銀・テルル化銀混合物の HIP 焼結
- 2E18 沈殿法によるリン酸ジルコニル粉体の合成
- Al-Ti混合硫酸塩溶液からの共沈物の水熱条件下における結晶化
- 窒化ケイ素超微粒子の熱間等方圧加圧焼結処理
- 凍結乾燥粉末から調製したスピネル焼結体の熱間等方圧加圧
- KCl-NaCl-CaCl2-MgCl24成分系状態図(英文)
- 3B23 チタン酸アルミニウムの熱膨張
- 2B22 アモルファスクエン酸錯体法によるガーネット型 Gd_3Al_5O_ 粉体の合成
- HIP焼結法による砒化ガリウムの緻密化
- アルミニウムイソプロポキシドの熱分解により調製したアルミナの焼結性
- 凍結乾燥法を利用したヒドロキシアパタイト粉末の調製
- アモルファスクエン酸錯体法により調製したガ-ネット型Y3Fe5O12粉末のキャラクリゼ-ションと緻密化