静電塗布法によるフラーレン誘導体の薄膜形成における印加電圧と膜質の関係
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概要
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Thin films of fullerene derivative were prepared by an electrospray deposition (ESD) method using six types of fullerene derivatives (a series of [6,6]-Phenyl-C61-butyric acid ester and adducts of C60 with indene). The optimized conditions for fabricated thin films were investigated by ESD process using 1.0 mg/mL diluted solutions of the fullerene derivatives : the spray diameter as a function of the supply rate by changing the applied voltages. In all the cases, the spray diameters increased with increasing applied voltage reaching the maximum diameter (Dmax) at the voltage (VDmax) and decreasing for higher voltage. The scanning electron microscope observation of the successfully fabricated thin films showed the imbricated structure formed by the stacking of fullerene derivative sheets. The atomic force microscope image revealed that the highest density of imbricated structure was obtained at VDmax, and the root-mean-square roughness of the film surface decreased sharply reaching at the voltage. These findings suggest that the ESD method is expected to be effective to prepare a fullerene derivative thin film for the production of organic devices.
著者
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福田 武司
埼玉大学大学院理工学研究科
-
千原 貞次
埼玉大学大学院理工学研究科
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高木 健次
埼玉大学大学院 理工学研究科
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武志 一正
埼玉大学大学院 理工学研究科
-
田島 右副
埼玉大学大学院 理工学研究科
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福田 武司
埼玉大学大学院 理工学研究科
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千原 貞次
埼玉大学大学院 理工学研究科
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