Magnetic field effects on the efficiency of pulse deposition of copper from Cu(II)-EDTA baths.
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概要
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Deposition efficiencies in the presence of magnetic fields increased with longer on-time and higher current density, but an supplementary, magnetic field effect appeared when off-time was prolonged. It was demonstrated that one of the magnetic field effects was due to the fact that Lorentz force caused replenishment of copper ions on the cathode. Magnetic fields can not be expected to produce any positive effects on pulse plating.
- 一般社団法人 表面技術協会の論文
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