Photocatalytic Effect of Various Semiconductors on the Photooxidation of Surfactants:The Photodegradation of Surfactants. XVI
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Effects of such n-type semiconductors as TiO<SUB>2</SUB> (anatase, rutile or surface-modified TiO<SUB>2</SUB> and Pt-loaded TiO<SUB>2</SUB>), ZnO, WO<SUB>3</SUB> and MoS<SUB>2</SUB> on the photodegradation of anionic DBS and cationic BDDAC surfactants, and related model compounds were examined in the present study. The anatase form of TiO<SUB>2</SUB> showed greater photocatalytic activity than the rutile form. Noble-metal loaded catalysts (<I>e. g</I>., TiO<SUB>2</SUB>/Pt) were less photooxidative than the naked anatase TiO<SUB>2</SUB> catalyst, possibly due to suppression of electron transfer of O<SUB>2</SUB> to give O<SUB>2</SUB>, namely photoreduction. The ZnO semiconductor catalyst decomposed DBS more rapidly than anatase Ti0<SUB>2</SUB>. The photocatalytic activity of the other semiconductors examined (WO<SUB>3</SUB> and MoS<SUB>2</SUB>) was only slight in each case.
- Japan Oil Chemists' Societyの論文
著者
関連論文
- 界面活性剤の光触媒による分解メカニズムに関する研究
- MOCVD法による酸化物超伝導体YBa_2Cu_3O_薄膜作製用低融点銅錯体
- MOCVD用Ru錯体の低融点化
- ヒドロキシル基を有する2-アミノ酸型両性界面活性剤の合成と物性 (第2報)
- 2-ヒドロキシアルキル基を有する新両性界面活性剤 (第6報) : 両性界面活性剤存在下でのトリフェニルメタン色素のアルカリ退色速度に関する研究
- ヒドロキシル基を有する2-アミノ酸型両性界面活性剤の合成と物性 (第1報)
- 2-ヒドロキシアルキル基を有する新両性界面活性剤 (第7報) : 両性界面活性剤のサーモトロピック液晶の性質
- 非イオン界面活性剤の光触媒酸化における過酸化物とアルデヒド生成 : 界面活性剤の光分解 (第7報)
- N, N-ビス (1-カルボキシアルキル) アルカンジアミンを用いる重金属イオンの溶媒抽出に関する研究
- 界面活性剤の光分解 (第3報) : 酸化チタンを用いるカチオン界面活性剤の不均一系光触媒的分解
- 2-ヒドロキシアルキル基を有する新両性界面活性剤 (第5報) : 混合ミセルにおける両性界面活性剤とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムとの相互作用
- 有機酸塩のスプレ-熱分解法によるYBCO厚膜の作製 (酸化物超伝導体の材料プロセス化と特性評価)
- Photocatalytic Effect of Various Semiconductors on the Photooxidation of Surfactants:The Photodegradation of Surfactants. XVI