チオエーテル化合物のいんぺい作用および各種チオール誘導体のいんぺい能の比較 : キレート滴定におけるいんぺい剤の研究(第5報)
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概要
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チオエーテル化合物としてビス(β-アミノエチル)スルフィド(AES),チオジプロピオン酸(TDPA),カーボキシメチルメルカプトコハク酸(CMMS)およびカーボキシエチルメルカプトコハク酸(CEMS)のEDTA滴定におけるいんぺい作用を検討した.その結果,pH10でBTまたはPV指示薬を用いてマンガンを滴定するとき亜鉛,水銀,コバルト,銅,ニッケルをAESで,pH5〜6でPV指示薬を用いて銅を滴定するときマンガンをTDPAで,pH2〜3でPV指示薬を用いてビスマスを滴定するときトリウムをCMMSで,pH5〜6でXO指示薬を用いてカドミウム,亜鉛,鉛を滴定するときマンガン,水銀をCMMSでそれぞれいんぺいすることができた.また上記化合物を含めて既報の各種チオール化合物のいんぺい能力を比較検討した結果,チオール化合物に比べてチオエーテル化合物は一般にキレート生成能が弱いが,これらの試薬を適当に組み合わせて使用することにより,選択的いんぺいの目的を達することがわかった.
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