矩形流路内における乱流促進体による物質移動の増進機構
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概要
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矩形流路内に円柱形乱流促進体を単独に壁面および壁面近くに設置した場合の物質移動の増進機構の究明を目的として実験的研究が電極反応を用いて行われた.<BR>促進体後流での局所物質移動係数の増加比は促進体一壁面間のクリアランスを変化させて測定され, その増進の機構を明らかにするために壁面勇断応力, 乱流強度および物質移動強度の分布が物質移動の測定に対応して測定された.これらの各因子の分布の挙動からクリアランスがない場合の物質移動の増進は壁面近傍の乱れ強度に依存し, クリアランスがある場合は壁面近傍の乱れ強度の他に壁面勇断応力が物質移動増進の要因であることが明らかになった.
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