直流および正弦波, 矩形波交流グロー放電プラズマによる炭素薄膜の生成
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概要
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本研究は, 平行平板型電極を用いたグロー放電プラズマによる炭素薄膜の生成において, 直流電源と, 交流電源として商用周波数の正弦波と矩形波の計3種類を用いて, それぞれの堆積速度や生成される膜の接着強度, 膜厚分布を比較したものである。その結果, 堆積速度はいずれの電源を用いた場合にも, 放電電流に対して比例的に変化することがわかった.<BR>堆積速度の圧力依存性を検討することにより直流および50Hz正弦波, 矩形波交流電源を用いたグロー放電においてイオンフラックスからの寄与の割合を推算した.その結果, 堆積量への寄与は交流グロー放電の場合はイオンフラックスによる寄与が大きいことがわかった.さらに交流グロー放電を用いた方が膜質および膜厚分布に改善がみられることがわかった.
- 社団法人 化学工学会の論文
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