旋回流型気流層での粒子滞留時間

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概要

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• 気流層の常温流れモデル炉を用いて, トレーサ応答法により粒子滞留時間を測定し炉形状の影響を検討した.モデル炉には, 上, 下端に絞りを設け, 旋回方向に向けたバーナを上下2段に設置して旋回流を形成させた.上端絞り径, 下段バーナ旋回円径を小さくするほど, また, 上段バーナ高さを低くするほど粒子滞留時間は増大した.これは, 形状により炉内の周方向速度分布が変化し, 粒子に加わる遠心力が変化するためである。旋回流型気流層の粒子滞留時間と, 計算により求めた栓流型気流層の粒子滞留時間との比<I>T</I>は, 遠心力と重力との比である遠心効果<I>Z</I>の関数として次式で表せることを明らかにした.<BR><I>T</I>=0.122×<I>Z</I><SUP>0.501</SUP>

• 社団法人 化学工学会の論文

著者

• 小山 俊太郎

  日立・電開研

• 小山 俊太郎

  (株) 日立製作所 電力・電気開発研究所

• 野北 舜介

  茨城大学

• 森原 淳

  (株) 日立製作所 日立研究所

• 野北 舜介

  (株) 日立製作所 日立研究所

• 小山 俊太郎

  (株) 日立製作所 日立研究所

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