A Continuous-Flow Method for Chemical Vapor Deposition of Tetramethoxysilane on γ-Alumina to Prepare Silica Monolayer Solid Acid Catalyst
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概要
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A continuous-flow method of chemical vapor deposition of tetramethoxysilane on γ-alumina was developed for industrial utilization of silica monolayer solid-acid catalyst. The flow method caused relatively heterogeneous coverage of silicon compared to the static method; higher coverage by silica was observed at the substrate bed near to the inlet of the reactor, especially in the low silicon concentration region. However, the difference in structure was small in the high silicon concentration region where the coverage reached almost 100%. The catalytic activity for double-bond isomerization of 1-butene and thermal stability obtained by the two methods were similar, showing that the continuous-flow method was sufficient to prepare the silica monolayer catalyst commercially.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
-
丹羽 幹
鳥取大学大学院工学研究科
-
KATADA Naonobu
Department of Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering, Tottori University
-
NIWA Miki
Department of Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering, Tottori University
-
Niwa Miki
Department Of Chemistry And Biotechnology Graduate School Of Engineering Tottori University
-
Katada Naonobu
Department Of Chemistry And Biotechnology Graduate School Of Engineering Tottori University
-
FUKUI Hitoshi
Department of Materials Science, Faculty of Engineering, Tottori University
-
Fukui Hitoshi
Department Of Materials Science Faculty Of Engineering Tottori University
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