レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス

概要

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人工物の個体に固有の物理的特徴を活用する人工物メトリクスは,物理的特徴の測定がその形成に比べて高精度で行えることを利用して,耐クローン性(コピー困難性)をもたらすことを狙った技術である.耐クローン性は情報・物理セキュリティ分野において基本的に重要な性質であり,数多の応用がある.さて,対象とする物体の電磁気学的特性や機械振動特性などの様々な物理的特性による物理的特徴を測定した値(情報)は,対象の物体だけで定まるものではなく,物体の特徴と,それを測定するシステムである人工物メトリック・システムとの組により定まる.従来は,マイクロメートルスケールのパターンの測定と偽造の攻防を主な検討の場として,紙やプラスチックや半導体などの媒体における人工物メトリクスが開発され,実用化がなされてきた.微細加工技術の近年の進歩を踏まえると,ナノメートルスケールにおける人工物メトリクス(ナノ人工物メトリクス)を本格的に検討することが重要な課題として成立する.本稿は,このナノ人工物メトリクスに関する研究成果の速報であり,数10ナノメートルの精度でパターンを形成できる電子線リソグラフィを用いたクローン攻撃に耐えられるナノ人工物メトリクスが構築できる見通しについて報告する.すなわち,電了・線リソグラフィにおける電子線レジスト・ピラーの倒壊現象を積極的に利用してナノメートルスケールのランダムな凹凸構造をシリコン基板上に形成し,これを最先端の集積回路開発に用いられる測長走査電子顕微鏡(CD-SEM)と情報処理技術を用いてナノメートルオーダの精度で読みとる人工物メトリック・システムとその簡易評価結果の概要を示す.
2013-02-28

レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス

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