25aRF-10 高速断熱通過法を用いたDicke状態の生成II(25aRF 量子エレクトロニクス(周波数標準・イオントラップ),領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))

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概要

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• 2010-08-18

著者

• 豊田 健二

  阪大院基礎工

• 占部 伸二

  阪大院基礎工

• 野村 真司

  阪大院基礎工

• 豊田 健二

  阪大院基礎工:jst-crest

• 木村 友哉

  阪大院基礎工

• 占部 伸二

  阪大院基礎工:jst-crest

• 占部 伸二

  大阪大学基礎工学部

• 占部 伸二

  大阪大 大学院

• 渡辺 剛

  阪大院基礎工

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