P-74 ジルコニアに対するレジンセメントの接着強さに及ぼす真空紫外光照射の影響(生体用セラミックス,一般講演(ポスター発表),第56回日本歯科理工学会学術講演会)
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概要
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Vacuum ultraviolet (VUV) radiation that is found to be very effective in introducing OH terminals on Ti substrates was used in the present study to introduce OH terminals on the surface of zirconia substrates. The contact angle, which can be used to asses the hydrophilicity of materials, decreased steeply immediate after VUV irradiation, indicating that OH terminals were successfully introduced on the substrates. Since silane agents can couple to substrates through OH terminals, VUV may enhance the bond strength between resin cement and zirconia restorations.
- 2010-09-20
著者
-
土井 豊
朝日大・歯・理工
-
山口 佑亮
朝日大・歯・理工
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堀田 正人
朝日大・歯・保存
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羽田 詩子
朝日大・歯・補綴
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藤原 周
朝日大・歯・補綴
-
藤原 周
朝日大学歯学部口腔機能修復学講座
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土井 豊
朝日大学歯学部口腔機能修復学講座歯科理工学分野
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土井 豊
東北生活文化大学家政学部
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藤原 周
朝日大学歯学部口腔機能修復学講座歯科補綴学分野 Pdi 岐阜歯科診療所
-
土井 豊
朝日大学歯学部歯科理工学講座
-
堀田 正人
朝日大学歯学部口腔機能修復学講座補綴学分野
-
堀田 正人
朝日大学歯学部口腔機能修復学講座歯冠修復学
-
土井 豊
朝日大・歯・歯科理工
-
山口 佑亮
朝日大・歯・保存i
-
堀田 正人
朝日大学歯学部歯科保存学第一講座
-
山口 佑亮
朝日大・歯・保存
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