283 アモルファス炭素面上でのスパッタリング特性に関する分子動力学的研究(炭素構造体,OSO7 電子・原子・マルチシミュレーションに基づく材料特性評価)
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概要
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By using molecular dynamics method, helium, neon, and argon ion impacts on an amorphous carbon are simulated for the acceleration energy E_a ranging from 10 to 800eV in order to investigate the sputtering properties. The sputtering yield and probability increase linearly to the acceleration energy for around E_a≤200eV and saturate for E_a>200eV while the penetration depth is simply proportional to the acceleration energy. The sputtering yield and probability take the maximum for the incident angle around 25 to 40 degrees where the energetic ion may stir the target around the surface.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2006-11-02
著者
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