耐熱性ポリイミド/銅ナノ細線複合膜の作製と導電特性(有機材料・一般)
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概要
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ポリイミド膜に450Mevの^<129>Xe^<23+>イオンを照射して選択的にイオントラックをエッチングすることでナノイオン穿孔膜を作製し、電気化学的手法により銅細線を析出させてポリイミド-銅細線複合膜を作製した。得られた複合膜の異方導電性を評価し、3x10^3ion/cm^2のフルエンスの条件で銅細線1本当たりの伝導率が推定され、銅細線の電気伝導率はバルクの値とほぼ等しいものと推定された。
- 2007-05-11
著者
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越川 博
日本原子力研究所高崎研究所材料開発部高機能材料第1研究室
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越川 博
Quantum Beam Science Directorate Japan Atomic Energy Agency
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越川 博
日本原子力研究所高崎研究所
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前川 康成
日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究部門 高導電性高分子膜材料研究グループ
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前川 康成
Quantum Beam Science Directorate Japan Atomic Energy Agency
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前川 康成
日本原子力研究所高崎研究所
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