加熱気化/ICP-MSにおけるマトリックス成分補正方法の提案とSBT薄膜中微量金属への適用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
We established a simple electrothermal vaporization (ETV)/inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) technique without separating analyte elements from a matrix to determine trace metallic impurities of eight elements (Na, Mg, Al, Cr, Mn, Fe, Ni, and Cu) in a Y-1 (strontium (Sr)-bismuth (Bi)-tantalum (Ta)-oxygen (O)) thin film for semiconductor ferroelectric random-access memories. To improve the linearity of each calibration curve (20 pg ml^<-1>-10 ng ml^<-1>), we added the same concentration of Sr, Bi and Ta to a mixed standard solution as those in the sample solution as a mixed modifier. The recovery percentages obtained by adding 1 ng ml^<-1> of each element to the sample solution were between Al (90%)-Cr (105%). The detection limit (3σ) was 1.9×10^<10> (Mn)-1.3×10^<12> (Al) atoms cm^<-2> for a Y-1 thin film with a diameter of 150mm. The proposed method was applied to the real samples to determine the eight metallic elements (10^<11>-10^<13> atoms cm^<-2>).
- 2006-08-01
著者
関連論文
- 陰イオン交換/テノイルトリフルオロアセトン抽出/蛍光光度法による半導体用エポキシ樹脂中微量ウランの定量
- 二酸化硫黄処理された鉛ガラス表面上硫酸塩の分別溶解/イオンクロマト分析によるアルカリ金属と鉛の間接定量
- 加熱気化/ICP-MSにおけるマトリックス成分補正方法の提案とSBT薄膜中微量金属への適用
- 加熱気化/ICP-MSにおけるパラジウムモディファイヤーの使用による検量線の直線性改善とシリコンウェハ表面超微量金属の定量
- 細管式等速電気泳動法によるホルムアルデヒドとギ酸の同時定量
- フッ化水素酸蒸気分解/マイクロコンセントリックネブライザー誘導結合プラズマ質量分析法によるシリコンウェハー表面の超微量ゲルマニウムの定量
- マトリックス修飾剤としてアスコルビン酸を用いる黒鉛炉原子吸光法による強誘電体材料Y-1溶液中の微量不純物金属の迅速定量
- 水酸化ナトリウム-硝酸分解/誘導結合プラズマ発光分析法による半導体用アルミニウム合金中ケイ素及び銅の定量
- アルカリ融解/ICP-AESによる蛍光ランプ用青色蛍光体中バリウム,マグネシウム,アルミニウム及びユウロピウムの定量