産業用高出力全固体UVレーザの開発(量子光学,非線形光学,超高速現象,レーザ基礎,及び一般)
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概要
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電子機器の小型・高機能化を支える高密度プリント配線基板や各種電子材料の微細加工ツールとしてレーザの適用が進んでいる.この中で全国体UVレーザは集光性が高い,多くの材料に対して高い吸収係数を有する,保守性に優れるなどの特徴を有し,製造工程の更なる微細化の要求に応えるレーザとして期待されている.産業用途で要求される高い生産性を可能とするためには,高出力の全固体UVレーザが必要とされる.こうした背景から,当社では高出力全固体UVレーザの開発を実施しており,カスケードMOPA構成により直線偏光でTEM_<00>の出力265Wの全固体QスイッチNd:YAGレーザを開発し,波長変換により繰返し周波数20kHzにおいて,80Wの3倍波(波長355nm)を得た.これは,我々の知る限り世界最高出力の全固体UVレーザである.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-05-26
著者
-
西前 順一
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
小島 哲夫
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
-
桂 智毅
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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西前 順一
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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桂 智毅
三菱電機先端技術総合研究所
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西前 順一
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
-
黒澤 満樹
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
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西前 順一
三菱電機
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小島 哲夫
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
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