C-3-63 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(3) : ポリマ光導波路への高精度V溝集積(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-03-07
著者
-
宮寺 信生
日立化成工業
-
黒田 敏裕
日立化成工業株式会社先端材料研究所
-
山本 礼
日立化成工業(株)先端材料研究所
-
八木 成行
日立化成工業(株)先端材料研究所
-
鯉渕 滋
日立化成工業(株)先端材料研究所
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山口 正利
日立化成工業(株)電子材料事業本部
-
金沢 稔彦
日立化成工業(株)電子材料事業本部
-
宮寺 信生
日立化成工業(株)総合研究所
-
黒田 敏裕
日立化成工業
-
山本 礼
日立化成工業
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