黒田 敏裕 | 日立化成工業株式会社先端材料研究所

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概要

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関連著者

• 黒田 敏裕

  日立化成工業株式会社先端材料研究所

• 黒田 敏裕

  日立化成工業

• 宮寺 信生

  日立化成工業

• 山本 礼

  日立化成工業(株)先端材料研究所

• 八木 成行

  日立化成工業(株)先端材料研究所

• 鯉渕 滋

  日立化成工業(株)先端材料研究所

• 山本 礼

  日立化成工業

• 山口 正利

  日立化成工業(株)電子材料事業本部

• 宮寺 信生

  日立化成工業(株)総合研究所

• 宮寺 信生

  日立化成工業株式会社先端材料研究所

• 助川 健

  株式会社巴川製紙所

• 高山 一也

  日立化成工業株式会社先端材料研究所

• 佐々木 恭一

  TOMOEGAWA技術研究所

• 助川 健

  TOMOEGAWA技術研究所

• 金沢 稔彦

  日立化成工業(株)電子材料事業本部

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著作論文

• C-3-20 現場取付型光導波路モジュールの開発(石英系導波路デバイス,C-3. 光エレクトロニクス,一般セッション)
• C-3-13 低損失WDM用ポリマ光導波路基板(導波路デバイス(II),C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
• C-3-64 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(4) : V溝パッシブ実装によるポリマ光導波路の信頼性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• C-3-63 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(3) : ポリマ光導波路への高精度V溝集積(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• C-3-62 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(2) : ポリマ光導波路のMMI部に2枚のTFFを挿入した3波WDMフィルタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
• C-3-61 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(1) : TFF位置トレランスを向上させた3波WDMフィルタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)

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