山口正利 | 日立化成工業(株)電子材料事業本部

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概要

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著作論文

C-3-64 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(4) : V溝パッシブ実装によるポリマ光導波路の信頼性(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
C-3-63 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(3) : ポリマ光導波路への高精度V溝集積(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
C-3-62 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(2) : ポリマ光導波路のMMI部に2枚のTFFを挿入した3波WDMフィルタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)
C-3-61 フッ素化ポリイミドを用いたV溝集積型光導波路(1) : TFF位置トレランスを向上させた3波WDMフィルタ(C-3. 光エレクトロニクス, エレクトロニクス1)

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