ナノメータすきまの分子気体潤滑(MGL)特性 : 境界面ポテンシャルの影響(機素潤滑設計III)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 一般社団法人日本機械学会の論文
• 2004-03-06

著者

• 松岡 広成

  鳥取大・工

• 福井 茂寿

  鳥取大・工

• 吉田 真悟

  鳥取大・院

関連論文

• 903 長波方程式による薄膜表面変形の線形無限幅解析(模索潤滑設計I)
• 1409 AFMによる表面間力測定 : 固体間インターフェースモデルによる理論予測とその実験検証(口頭講演,トピックスセッション:磁気ヘッド浮上すきま低減技術(2))
• 1403 薄膜気液界面の変形特性 : 線形長波方程式による有限幅数値解析(口頭講演,トピックスセッション:磁気ヘッド浮上すきま低減技術(1))
• 2525 長波方程式による薄膜液体表面の時間発展解析 : 極性液体による不安定現象(S79-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S79 情報機器コンピュータメカニクス)
• S1603-1-4 凹凸を有する走行面上の3自由度浮上浮動ヘッドの分子気体潤滑解析(情報機器コンピュータメカニクス)
• 715 DLC 表面上に形成した有機シラン系 SAM の摩擦特性 : 分子鎖長の影響
• F-1309 液体メニスカスが局在する固体面間に生ずる液体反力の解析 : 固体表面が曲率をもつ場合(S47-3 ヘッド・ディスク・インタフェース)(S47 情報機器コンピュータメカニクス)
• 109 液体メニスカスが局在する固体面間に生ずる液体反力の解析 : 平行平面間の場合(情報機器コンピュータメカニクス1 : ヘッド・ディスク・インタフェース)
• 1121 メニスカスカを考慮したコンタクトスライダのダイナミクス解析 : 正弦波およびランダム表面うねりによる解析結果
• 109 メニスカス力を考慮したコンタクトスライダのダイナミクス解析 : 追従性と耐摩耗性による制限要因の明確化
• 液体メニスカスが局在する固体面間に生ずる液体反力の解析 : 接触角変化と境界位置変化を考慮した複合モデルの構築(情報機器コンピュータメカニクス1 -ヘッド・ディスク・インターフェース,IIP2004 情報・知能・精密機器部門講演会)
• メニスカスの振動伝達に関する実験的研究 : 境界条件の影響(情報機器コンピュータメカニクス1 -ヘッド・ディスク・インターフェース,IIP2004 情報・知能・精密機器部門講演会)
• 2808 光てこAFMのダイナミック計測における補正手法の研究 : 先端付加質量・ばねの影響(J20 マイクロナノ理工学,2005年度年次大会)
• 3028 ナノ薄膜の表面エネルギーに関する研究 : ガラス基板上のステアリン酸LB膜をモデルとした検討(J21 マイクロナノ理工学,J21 マイクロナノ理工学)
• 2524 メニスカスの振動伝達に関する実験的研究 : 撥油剤の影響(S79-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S79 情報機器コンピュータメカニクス)
• 2301 液体メニスカス架橋による振動伝達に関する実験的研究(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス2)
• 2310 スライダ気体潤滑下の液体薄膜表面の安定性解析 : スライダ動特性を考慮した空気膜特性の影響(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 413 液体薄膜表面のウォッシュボード効果 : スライダ動特性を考慮した基本特性(G.S.:機素潤滑設計IV)
• 806 複合層に働くファンデルワールスカを考慮した磁気ヘッドスライダの浮上特性解析 : 走行面形状に対する有限幅スライダの追従特性(機素潤滑設計I)
• 921 ゴム-ガラス表面間に働く凝着力の湿度依存性 : 自動車用ワイパーゴムにおける表面処理の影響(機素潤滑設計IV)
• 長波方程式による液体潤滑剤の変形・流動特性解析 : 気体圧力による有限幅界面の数値解析(S62-4 HDI(2),S62 情報機器コンピュータメカニクス)
• ニアコンタクト領域のスライダ浮上特性 : 液体潤滑剤および分子間力の影響の基本検討(S62-4 HDI(2),S62 情報機器コンピュータメカニクス)
• 107 ニアコンタクト領域のMGLダイナミクス解析 : CIP法による2自由度挙動解析(情報機器コンピュータメカニクス1 : ヘッド・ディスク・インタフェース)
• 2305 長波方程式による液体潤滑剤の変形解析 : 各種手法による解析比較(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス2)
• 818 薄膜液体表面の安定性解析 : 極性液体における不安定現象(機素潤滑設計III)
• 817 薄膜気液界面の変形特性 : スライダ潤滑下における液膜変形の線形解析(機素潤滑設計III)
• 薄膜液体表面の安定性解析 : ナノメータすきまを隔てた対向面の影響(機素潤滑設計III)
• 516 液体薄膜の変形解析における拡張ADI法の適用(流体工学III)
• S1603-1-3 液体超薄膜表面に働く繰り返し応力による表面変形解析 : 振動するスライダ下の液膜変形の線形解析(情報機器コンピュータメカニクス)
• 902 液体メニスカス架橋の力学特性に関する実験的研究 : 広接触角範囲における特性(模索潤滑設計I)
• 3813 液体メニスカス架橋のフォースカーブ測定 : 広接触角範囲における特性(S54 情報機器コンピュータメカニクス,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
• 306 光てこAFMのダイナミック計測における振動振幅・位相の補正手法の研究 : 任意位置のダンピングによる根元加振/試料加振時の補正への影響(T01-2 マイクロ・ナノダイナミクスの計測と制御(2),大会テーマセッション,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
• 2309 複合層におけるファンデルワールスカを考慮した磁気ヘッドスライダの浮上特性解析 : 有限幅スライダの2自由度動的挙動解析(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス2)
• 複合層におけるファンデルワールス力を考慮したスライダ動的挙動の2自由度解析(情報機器コンピュータメカニクス1 -ヘッド・ディスク・インターフェース,IIP2004 情報・知能・精密機器部門講演会)
• 光てこ法によるAFMダイナミック計測における補正手法の研究(J23-3 マイクロナノ理工学(3),J23 マイクロナノ理工学)
• 3416 薄膜気液界面の変形特性 : 微小変形の無限幅解析(S70-2 情報機器コンピュータメカニクス(2),S70 情報機器コンピュータメカニクス)
• 917 周囲流体によるAFMカンチレバーの減衰特性(機素潤滑設計III)
• 2809 光てこAFMのダイナミック計測における補正手法の研究 : 周囲流体による減衰の影響(J20 マイクロナノ理工学,2005年度年次大会)
• 805 光てこ法によるAFMダイナミック計測における補正手法の研究 : 周囲流体による減衰を考慮した理論解析(機素潤滑設計I)
• 903 長波方程式による液膜変形の線形有限幅解析 : 単一応力印加時の基本特性(機素潤滑設計I)
• 905 ナノ薄膜の表面エネルギーに関する研究 : 有効分散成分理論の検証(模索潤滑設計I)
• 1114 ナノ薄膜の表面エネルギーに関する研究 : アラキジン酸LB膜を用いた有効分散成分理論の検証(マイクロトライボロジー,一般講演)
• 照射加熱を受ける液膜/基板系の熱移動とマランゴニ効果(界面現象,一般講演)
• S1604-1-3 液体超薄膜の3次元変形解析 : 対向面の存在による不安定現象(磁気ヘッド浮上位置決め制御技術)
• 鳥取大学 ナノシステム解析学研究室
• 919 光てこAFMのダイナミック計測における振動振幅・位相の補正手法の研究 : チップ-試料間相互作用の機械特性の補正(模索潤滑設計IV)
• 1113 AFMによる表面間力測定 : 金-シリコン間に働く凝着力・摩擦力の湿度依存性(マイクロトライボロジー,一般講演)
• 901 AFMによる表面間力測定 : 固体間インターフェースモデルによる理論予測(機素潤滑設計I)
• MEMS要素のナノトライボダイナミクス (特集 ナノテクノロジー)
• F-1311 分子気体潤滑方程式の線形解析 : 走行面上の無限幅スライダ動特性の一般化理論(S47-3 ヘッド・ディスク・インタフェース)(S47 情報機器コンピュータメカニクス)
• 411 AFMフォースカーブの湿度依存性(G.S.:機素潤滑設計III)
• 5711 AFMによる表面間力測定 : フォースカーブの湿度による変化(S84-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S84 情報機器コンピュータメカニクス)
• ナノメータすきまの分子気体潤滑(MGL)特性 : 境界面ポテンシャルの影響(機素潤滑設計III)
• 909 液体超薄膜を考慮したインターフェースモデルの構築 : 液体メニスカスによるヒステリシス現象の解明(機素潤滑設計II)
• 2309 液体超薄膜の安定性・流動特性解析 : 極性を有する薄膜液体の動的挙動(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 414 分子気体潤滑のCIPダイナミクス解析(G.S.:機素潤滑設計IV)
• 412 液体超薄膜表面の流動シミュレーション(G.S.:機素潤滑設計IV)
• 5717 2次元CIPスキームによる分子気体潤滑解析 : 単一突起通過時の圧力解析(S84-2 情報機器コンピュータメカニクス(2),S84 情報機器コンピュータメカニクス)
• 5713 長波方程式による液体超薄膜の時間発展解析 : 種々の初期配置に対する流動解析(S84-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S84 情報機器コンピュータメカニクス)
• 2523 DSMC法によるABS面段差広がり部の温度降下解析(S79-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S79 情報機器コンピュータメカニクス)
• 819 ナノメータ浮上スライダの気体潤滑特性 : DSMC法による潤滑領域の気体温度解析(機素潤滑設計III)
• 2308 液体メニスカス架橋の力学特性に関する実験的研究(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 410 液体メニスカス架橋の動特性(G.S.:機素潤滑設計III)
• 5710 液体メニスカスのフォースカーブ測定(S84-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S84 情報機器コンピュータメカニクス)
• S1604-1-2 液体超薄膜の加熱による変形流動特性(ヘッド・ディスク・インターフェイス,社会変革を技術で廻す機械工学)
• 2202 光てこAFMのダイナミック計測における振動振幅の補正手法の研究 : 先端に付加された質量・ばね・ダンピングの影響(要旨講演,マイクロナノ理工学)
• 420 光てこAFMによるマイクロカンチレバーの振動振幅計測に関する理論解析(G.S.:機素潤滑設計V)
• 5709 光てこAFMのダイナミック計測における補正手法の研究 : 先端付加ばねの影響(J21-2 マイクロナノ理工学(2),J21 マイクロナノ理工学)
• MNM-1B-5 屈折率が不均一な走行面上の超微小すきまスライダの動的挙動 : モデル解析と実験値に基づく解析(セッション 1B 情報・精密機器におけるマイクロ・ナノテクノロジー1)
• A-15 局所加熱による液体超薄膜表面の基本変形特性解析 : 伝熱特性を考慮した2次元数値解析(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• A-14 表面張力の温度・膜厚依存性を考慮した液体超薄膜の変形特性 : 非定常線形長波方程式による3次元解析(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• 分子気体潤滑問題のDSMC解析
• A-8 液体超薄膜表面に働く繰り返し応力による表面変形解析 : 線形長波方程式による応答解析(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• 1414 液体超薄膜表面に働く繰り返し応力による表面変形解析 : 線形長波方程式による時間発展解析(流体力学VI)
• 1413 非定常長波方程式による液膜変形の線形有限幅解析 : 表面張力の温度・膜厚依存性を考慮した数値解析(流体力学VI)
• MNM-1B-4 温度分布による液体超薄膜表面の変形(セッション 1B 情報・精密機器におけるマイクロ・ナノテクノロジー1)
• A-5 液体メニスカス架橋の破断による潤滑剤ピックアップ特性(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• MNM-P6-1 動的接触角を考慮した液体メニスカス架橋の力学特性解析(P6 情報・精密機器におけるマイクロ・ナノテクノロジー)
• A-2 走行するBPMディスク上のナノメータ浮上浮動ヘッドの分子気体潤滑解析 : 3自由度の浮上特性解析(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• 1507 熱移動を考慮した液体薄膜の変形解析(流体力学VIII)
• 509 液体メニスカス架橋の破断による液体移着に関する実験的研究(模索潤滑設計II)
• 508 凹凸を有する走行面上のナノメータ浮上浮動ヘッドの分子気体潤滑解析 : 3自由度の浮上特性解析(模索潤滑設計II)
• K17 情報ナノシステムのナノトライボロジーとダイナミクス : IT記憶装置のナノの世界
• 分子気体潤滑の数理と数値計算スキーム : CIP法の適用
• 2303 2次元CIPスキームによるナノメータ浮上ヘッドの分子気体潤滑解析(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• MNM-KN-4 液体メニスカス架橋の動特性(キーノート・セッション)
• 1703 内部発熱を伴う液膜/基板系の熱流体問題(OS17.混相流の数値流体力学,OS・一般セッション講演)
• 1504 繰り返し媒質分布を有する固体表面間のファンデルワールス力(OS15.固体物理/流体物理のマルチフィジックス/マルチスケール解析(1),OS・一般セッション講演)
• B-2-2 媒質分布を有するディスク面とスライダ間に働くファンデルワールス力の理論解析(B-2 ヘッド・ディスク・インタフェースに作用する相互作用他,口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• 1515 材料特性分布を有する固体面間に働くファンデルワールスカの理論解析(機械材料・材料加工III)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク