Three-dimensional numerical simulation of droplet deposition
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概要
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The deposition process of a single droplet on the film is numerically simulated by the three-dimensional Moving Particle Semi-implicit (MRS) method to analyze the possibility and effect of splash occurring in the deposition process in the Boiling Water Reactor (BWR) condition. From the simulation results, it is found that the splash plays an important role in the deposition and re-entrainment process in high quality conditions in BWR.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2004-09-04
著者
-
越塚 誠一
東京大学大学院 工学系研究科 システム創成学専攻
-
岡 芳明
東京大学
-
Koshizuka Seiichi
Nuclear Engineering Research Laboratory The University Of Tokyo
-
Liu J
Department Of Nuclear Engineering And Management The University Of Tokyo
-
岡 芳明
東京大学大学院工学系研究科附属原子力工学研究施設
-
OKA Yoshiaki
Nuclear Engineering Research Laboratory, The University of Tokyo
-
岡 芳明
東大原子力工学研究施設
-
岡 芳明
東京大学原子力グローバルCOE
-
LIU Jie
Nuclear Professional School, School of Engineering, University of Tokyo
-
XIE Heng
Nuclear Engineering Research Laboratory, The University of Tokyo
-
Xie Heng
Nuclear Engineering Research Laboratory The University Of Tokyo
-
Oka Yoshiaki
Department Of Nuclear Engineering And Management University Of Tokyo
-
Oka Yoshiaki
Nuclear Engineering Research Laboratory Graduate School Of Engineering The University Of Tokyo
-
Oka Yoshiaki
Nuclear Engineering Research Laboratory University Of Tokyo
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