Etching of SiO_2 in CF_4 Gas Plasma Using Planar-Type Reactor

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1981-03-05

著者

• Komiya Hiroyoshi

  Lsi Research And Development Laboratory Mitsubishi Electric Corporation

• Toyoda Hiroyasu

  Computer Development Laboratories Limited

• ITAKURA Hideaki

  Computer Development Laboratories Limited

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