Effect of Oxygen Additive on Microwave Plasma for Diamond Film Synthesis Studied by the Plasma Impedance Measurement
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1996-07-15
著者
-
小林 孝嘉
東京大学理学系研究科
-
Miyake Hitoshi
Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
KOBAYASHI Takeshi
Faculty of Engineering Science, Osaka University
-
SUGAHARA Ken-ichi
Faculty of Engineering Science, Osaka University
-
KONDO Kazuki
Power Source Technology Department, Advanced Component Division, Daihen Corporation
-
TANIGUCHI Michio
Power Source Technology Department, Advanced Component Division, Daihen Corporation
-
SUGIYO Masato
Power Source Technology Department, Advanced Component Division, Daihen Corporation
-
Kondo Kazuki
Power Source Technology Department Advanced Component Division Daihen Corporation
-
Sugiyo Masato
Power Source Technology Department Advanced Component Division Daihen Corporation
-
Sugahara Ken-ichi
Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
Kobayashi Takeshi
Faculty Of Engineering Science Department Of Electrical Engineering Osaka University
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