KrF-Excimer-Laser Induced Absorption in Synthetic Fused Silica

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概要

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• KrF-excimer-laser (5.0 eV) induced absorption in synthetic fused silica synthesized by flame hydrolysis of SiCl_4 (type-III-fused silica) was measured. Induced absorption is a Gaussian absorption band peaking at 5.8 eV, which is different from that of ArF-excimer-laser induced absorption consisting of five absorption bands at 6.5, 5,8, 5.4, 5.0 and 4.8 eV. Peak intensities of the absorption band decrease with increasing OH content. When the OH content exceeds &≈1000 ppm in mass, the internal absorption at 5.0 eV approach a constant value &≈ 1×10^<-4> cm^<-1>.

• 社団法人応用物理学会の論文
• 1997-11-15

著者

• KUZUU Nobu

  Department of Applied Physics, University of Fukui

• Kuzuu N

  Department Of Applied Physics The University Of Fukui

• Kuzuu Nobu

  Department Of Applied Physics Fukui University

• KAMISUGI Naoyoshi

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co., Ltd.

• IHARA Yoshinao

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co., Ltd.

• NAKAMURA Takayuki

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co., Ltd.

• Ihara Y

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co. Ltd.

• Kamisugi Naoyoshi

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co. Ltd.

• Nakamura Takayuki

  Nippon Silica Glass Yamaguchi Co. Ltd.

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